图片来源于网络，如有侵权，请联系删除
证券之星消息，根据天眼查APP数据显示中微公司（688012）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种气相沉积装置及基片处理方法”，专利申请号为CN202310581853.8，授权日为2026年5月8日。
专利摘要：本发明提供一种气相沉积装置及基片处理方法。所述气相沉积装置包括：反应腔，用于执行气相沉积工艺；用于承载基片的基座组件，其设置于所述反应腔的下方；与所述基座组件相对设置的气体喷淋头，其位于所述反应腔的上方，所述基座组件与所述气体喷淋头之间形成一充气空间，所述充气空间可在高压状态和低压状态进行切换；所述基座组件的上表面具有承载基片的中心区域与围绕所述中心区域的边缘区域，在所述气相沉积工艺过程中，所述边缘区域与相对的所述气体喷淋头的下表面之间具有可变化的间距值，在所述高压状态的间距值小于在所述低压状态的间距值。本发明能够保证台阶覆盖率并提高处理效率。
图片来源于网络，如有侵权，请联系删除
今年以来中微公司新获得专利授权47个，较去年同期减少了28.79%。结合公司2025年年报财务数据，2025年公司在研发方面投入了24.75亿元，同比增74.61%。
通过天眼查大数据分析，中微半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了29家企业，参与招投标项目80次；财产线索方面有商标信息111条，专利信息1672条，著作权信息13条；此外企业还拥有行政许可88个。
数据来源：天眼查APP
以上内容为证券之星据公开信息整理，由AI算法生成（网信算备310104345710301240019号），不构成投资建议。
